本發(fā)明涉及半導(dǎo)體,具體而言涉及一種mems器件及其制備方法。、mems器件包括空腔,從而為mems器件中的mems可動(dòng)結(jié)構(gòu)提供運(yùn)動(dòng)空間。在mems器件的空腔制備過程中,會(huì)在半導(dǎo)體襯底的背面制備形成對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記結(jié)構(gòu),之后刻蝕半導(dǎo)體襯底背面以形成空腔。但是相關(guān)技術(shù)中的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記結(jié)構(gòu)在后續(xù)刻蝕過程中容...